|
Английский язык
|
В группе |
144 академ. часа |
Занятия по 60 и 90 минут |
|
от 12320 |
|
| Индивидуально |
По договоренности |
Занятие 60 минут |
|
от 3500 руб. |
|
|
Разработка технологических процессов и процедур контроля фотолитографии в производстве наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем.
|
очно, дистанционно |
Количество часов: 36 |
|
|
|
|
|
Производство изделий наноэлектроники на основе применения новейших материалов и высокотехнологичного оборудования (Электронный курс)
|
дистанционная |
50 академических часов |
вариативный |
|
|
|
|
Система автоматизированного проектирования (структурный (логический)/Физический синтез)
|
Система автоматизированного проектирования (структурный (логический)/Физический синтез) |
Объем программы (вариативный) max: 72 часов – лекции и практические занятия 20 часов – изучение дополнительных материалов, выполнение заданий, консультации с преподавателями |
вариативный |
|
От 50 000 – 1 чел |
|
|
Особенности подключения технологического оборудования к системам инженерной инфраструктуры
|
Особенности подключения технологического оборудования к системам инженерной инфраструктуры |
Объем программы (вариативный) max: 72 часов – лекции и практические занятия 20 часов – изучение дополнительных материалов, выполнение заданий, консультации с преподавателями |
вариативный |
|
От 50 000 – 1 чел |
|
|
Проектирование и обслуживание чистых производственных помещений для микро- и наноэлектронных производств
|
Проектирование и обслуживание чистых производственных помещений для микро- и наноэлектронных производств |
Объем программы (вариативный) max: 46 часов – лекции и практические занятия 10 часов – изучение дополнительных материалов, выполнение заданий, консультации с преподавателями |
вариативный |
|
От 50 000 – 1 чел |
|
|
«Эксплуатация инженерных систем производства наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем»
|
«Эксплуатация инженерных систем производства наноразмерных полупроводниковых приборов и интегральных схем» |
Объем программы (вариативный) max: 58 часов – лекции и практические занятия 32 часа – изучение дополнительных материалов, выполнение заданий, консультации с преподавателями |
вариативный |
|
От 50 000 – 1 чел |
|
|
«Ключевые процессы изготовления полупроводниковых структур: формирование фоторезистивной маски и химико-механическая полировка поверхности пластин»
|
«Ключевые процессы изготовления полупроводниковых структур: формирование фоторезистивной маски и химико-механическая полировка поверхности пластин» |
Объем программы (вариативный) max: 58 часов – лекции и практические занятия 32 часа – изучение дополнительных материалов, выполнение заданий, консультации с преподавателями |
вариативный |
|
От 50 000 – 1 чел |
|
|
«Процессы жидкостной химической обработки кремниевых пластин в технологии производства ИС с субмикронными проектными нормами на пластинах диаметром 200 мм»
|
«Процессы жидкостной химической обработки кремниевых пластин в технологии производства ИС с субмикронными проектными нормами на пластинах диаметром 200 мм» |
Объем программы (вариативный) max: 72 часов – лекции и практические занятия 24 часа – изучение дополнительных материалов, выполнение заданий, консультации с преподавателями |
вариативный |
|
От 50 000 – 1 чел |
|
|
Независимая оценка квалификации специалистов наноиндустрии
|
«Независимая оценка квалификации специалистов наноиндустрии» |
Объем программы 72 часа – лекции и практические занятия. |
9 дней |
|
От 15 000 руб. – 1 чел. |
|
