Количество часов: 72 ак. часа.
Форма обучения: очная, в том числе с использованием электронных и дистанционных образовательных технологий.
Количество слушателей в группе для дистанционного обучения: 5-12.
Требования к образованию
К освоению программы допускаются лица, имеющие или получающие высшее (бакалавриат, магистратура) и (или) среднее профессиональное образование.
Категория слушателей:
· Специалисты химико-аналитических лабораторий, выполняющие расчёты показатели точности результатов измерений;
· Специалисты в области метрологии и стандартизации, отвечающие за валидацию методик и внутрилабораторный контроль;
· Руководители и ведущие эксперты лабораторий, осуществляющие контроль качества.
Цель реализации программы
Формирование у слушателей устойчивых практических навыков применения современных методов расчёта с использованием специализированного программного обеспечения для решения конкретных метрологических задач; формирование понимания принципов и методологий атомно-силовой микроскопии (АСМ) для выявления, характеризации и анализа наноразмерных дефектов, возникающих на поверхностях в результате обработки жидкими химическими реактивами и деионизованной водой (ДИВ) в микроэлектронных технологиях.
Содержание программы
Модуль 1. Автоматизация расчетов метрологических характеристик в количественном химическом анализе.
1.1. Введение в метрологию химического анализа. Основополагающие документы. Контроль качества анализа;
1.2. Правильность и прецизионность методики анализа. Статистическая обработка данных;
1.3. Контрольные карты Шухарта;
1.4. Неопределенность измерений в химическом анализе.
Модуль 2. Автоматизация расчетов метрологических характеристик в количественном химическом анализе.
2.1. Введение: Дефектность поверхностей в микроэлектронике и роль технологических жидкостей;
2.2. Теоретические и методические основы Атомно-Силовой Микроскопии (АСМ);
2.3. Методологии АСМ для анализа дефектности;
2.4. Решение прикладных задач микроэлектроники: анализ дефектов от жидкостей;
2.5. Интеграция данных АСМ и комплексные системы контроля.
Планируемые результаты обучения
· Статистическая обработка данных и расчёт метрологических характеристик погрешности по РМГ 61;
· Полный цикл расчёта неопределённости по руководствам «Еврохим СИТАК»;
· Освоение ключевых аспектов работы с АСМ: пробоподготовка поверхностей после жидкостной обработки, выбор режимов и параметров сканирования, калибровка, интерпретация мультипараметрических данных (топография, фаза, адгезия, модуль упругости).
Документ об обучении
Удостоверение о повышении квалификации/Сертификат внутреннего образца
Содержание программы
Модуль 1. Автоматизация расчетов метрологических характеристик в количественном химическом анализе.
1.1. Введение в метрологию химического анализа. Основополагающие документы. Контроль качества анализа;
1.2. Правильность и прецизионность методики анализа. Статистическая обработка данных;
1.3. Контрольные карты Шухарта;
1.4. Неопределенность измерений в химическом анализе.
Модуль 2. Автоматизация расчетов метрологических характеристик в количественном химическом анализе.
2.1. Введение: Дефектность поверхностей в микроэлектронике и роль технологических жидкостей;
2.2. Теоретические и методические основы Атомно-Силовой Микроскопии (АСМ);
2.3. Методологии АСМ для анализа дефектности;
2.4. Решение прикладных задач микроэлектроники: анализ дефектов от жидкостей;
2.5. Интеграция данных АСМ и комплексные системы контроля
| Форма обучения | Количество часов | Продолжительность | Стоимость занятия(руб.) | Стоимость курса(руб.) | Скидки(%) | Цена со скидкой |
|---|---|---|---|---|---|---|
| «Независимая оценка квалификации специалистов наноиндустрии» | 72 ак. часа | 120 000 рублей |
Адрес: Зеленоград, ул. Академика Валиева, д.6, стр.1
Телефон: +7 (495) 229 72 41
E-mail: info@neo-niime.ru